上海华力取得改善多晶栅覆盖层附着缺陷外延方法专利
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金融界2025年5月30日消息,国家知识产权局信息显示,上海华力集成电路制造有限公司取得一项名为“一种改善多晶栅覆盖层上附着缺陷的外延方法”的专利,授权公告号CN114496797B,申请日期为2022年01月。
天眼查资料显示,上海华力集成电路制造有限公司,成立于2016年,位于上海市,是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本2960000万人民币。通过天眼查大数据分析,上海华力集成电路制造有限公司参与招投标项目2073次,专利信息2316条,此外企业还拥有行政许可342个。
本文源自:金融界
作者:情报员
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