金融界2025年6月6日消息，国家知识产权局信息显示，深圳市利和腾鑫科技有限公司申请一项名为“一种光学胶的涂胶参数设计优化方法、系统及设备”的专利，公开号CN120103806A，申请日期为2025年05月。

专利摘要显示，本申请提供了一种光学胶的涂胶参数设计优化方法、系统及设备，包括材料选择和预处理步骤，用于基于输入的需求类型选择合适的材料并对材料进行预处理；粘度动态控制步骤，用于对粘度进行动态调节；涂布方式选择步骤，用于遴选合适的涂布方式；涂布厚度设计步骤，用于预设涂布厚度以实现最好的涂布效果；固化参数优化步骤，用于对完成涂布的产品进行固化，并提高其性能；材料选择和预处理步骤中至少包括表面活性剂添加操作，用于提升胶液对曲面的润湿性，减小边缘接触角，减少边缘缩胶风险；涂布方式选择步骤中至少包括预设涂布轨迹操作，可以实现基于不同需求尤其是曲面屏面板生产需求，进行有针对性的涂胶参数设计及优化，提升最终产品的质量。

天眼查资料显示，深圳市利和腾鑫科技有限公司，成立于2013年，位于深圳市，是一家以从事其他制造业为主的企业。企业注册资本1500万人民币。通过天眼查大数据分析，深圳市利和腾鑫科技有限公司共对外投资了1家企业，财产线索方面有商标信息2条，专利信息56条，此外企业还拥有行政许可8个。

本文源自：金融界

作者：情报员