金融界2025年6月7日消息，国家知识产权局信息显示，拓荆创益（沈阳）半导体设备有限公司申请一项名为“顶针机构、晶圆升降装置及调整顶针高度的方法”的专利，公开号CN120109079A，申请日期为2025年03月。

专利摘要显示，本发明提供了顶针机构、晶圆升降装置及调整顶针高度的方法。所述顶针机构包括：顶针、重锤和水平插销；所述顶针与所述重锤螺纹连接；所述顶针的高度通过顶针与重锤之间的螺旋运动进行调节，所述顶针的下部沿水平方向具有第一贯穿孔；所述重锤内部具有水平方向的第二贯穿孔，第二贯穿孔与第一贯穿孔连通成一销孔，以容纳所述水平插销。

天眼查资料显示，拓荆创益（沈阳）半导体设备有限公司，成立于2023年，位于沈阳市，是一家以从事研究和试验发展为主的企业。企业注册资本50000万人民币。通过天眼查大数据分析，拓荆创益（沈阳）半导体设备有限公司参与招投标项目12次，财产线索方面有商标信息1条，专利信息303条，此外企业还拥有行政许可10个。

本文源自：金融界

作者：情报员