朗姆研究申请对于旋转晶片的处理模块的处理站自动更正专利,可测定处理模块基座因温度导致的偏移
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金融界2025年6月13日消息,国家知识产权局信息显示,朗姆研究公司申请一项名为“对于旋转晶片的处理模块的处理站的自动更正”的专利,公开号CN120149241A,申请日期为2018年11月。
专利摘要显示,一种用于校正的方法包括:测定处理模块的基座在用于处理的温度条件下因温度导致的偏移的方法。该方法包括:通过机械手将晶片传送至所述处理模块的所述基座,并检测移入偏移值。该方法包括:使所述基座上的所述晶片旋转一定角度。该方法包括:通过所述机械手,将所述晶片从所述基座移开,并测量移出偏移值。该方法包括:利用所述移入偏移值和所述移出偏移值,测定所述温度导致的偏移的幅值和方向。
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