金融界2025年6月18日消息，国家知识产权局信息显示，ASML荷兰有限公司;ASML控股股份有限公司申请一项名为“用于光刻设备中的衬底保持器”的专利，公开号CN120161685A，申请日期为2018年11月。

专利摘要显示，本公开提供了一种用于光刻设备中配置成支撑衬底的衬底保持器，包括：具有主体表面的主体；从主体表面突出的多个第一支撑元件，第一支撑元件支撑衬底，具有第一高度；密封单元，包括第一密封构件，第一密封构件具有上表面和第二高度，且定位于多个第一支撑元件的径向向外并且围绕第一支撑元件；以及多个第二支撑元件，定位在第一密封构件的径向向外，其中第二支撑元件具有被配置成支撑衬底的远端表面和第一高度。多个第一支撑元件、第一密封构件或多个第二支撑元件包括由类金刚石碳、金刚石、碳化硅、亚硝酸硼或氮化硼碳制成的涂层，并且涂层形成多个支撑元件的远端表面和/或形成第一密封构件的上表面。还公开光刻设备。

本文源自：金融界

作者：情报员