金融界2025年6月23日消息，国家知识产权局信息显示，深圳市鑫晶科光电设备有限公司申请一项名为“一种表面无裂痕硬涂层薄膜加工及制备方法”的专利，公开号CN120173278A，申请日期为2025年03月。

专利摘要显示，本发明涉及电子行业技术领域，公开了一种表面无裂痕硬涂层薄膜加工，包括在基材的一面及多面，采用丙烯酸类、聚酯类、聚氨酯类、由选自橡胶类、有机硅类和乙烯基类的组合物组成，加工具有铅笔硬度为3H以及更高的硬涂层的硬涂膜的方法，在硬度为0.15GPa和更高的基膜上，使用具有对硬涂层的粘合力为45至1500mN/25mm的粘合层的保护膜。本发明简便且不依赖加工设备，即使硬涂层表面的铅笔硬度为3H或更高硬度的硬涂膜，也能够容易地加工而不会使硬涂层产生裂纹，通过在硬涂膜上贴上具有预定硬度的基膜和具有预定粘着力的保护膜进行加工，达到了即使具有高硬度硬涂层的硬涂膜也能简便地加工硬涂膜而不产生裂纹的效果。

天眼查资料显示，深圳市鑫晶科光电设备有限公司，成立于2010年，位于深圳市，是一家以从事批发业为主的企业。企业注册资本30万人民币。通过天眼查大数据分析，深圳市鑫晶科光电设备有限公司参与招投标项目1次，专利信息9条，此外企业还拥有行政许可3个。

本文源自：金融界

作者：情报员