金融界2025年7月2日消息，国家知识产权局信息显示，上海新阳半导体材料股份有限公司申请一项名为“一种羟胺类化合物清洗液”的专利，公开号CN120233649A，申请日期为2023年12月。

专利摘要显示，本发明公开了一种羟胺类化合物清洗液。本发明的羟胺类化合物清洗液包含以下质量分数的组分：1‑30％的羟胺类化合物、1‑5％的抗蚀剂、0.1‑5％的螯合剂、0.01‑5％的非离子型表面活性剂、1‑50％的水溶性有机溶剂和水；各组分质量分数之和为100％。该羟胺类化合物清洗液具有良好的清洗效果、腐蚀性低且安全环保，应用前景良好。

天眼查资料显示，上海新阳半导体材料股份有限公司，成立于2004年，位于上海市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本31338.1402万人民币。通过天眼查大数据分析，上海新阳半导体材料股份有限公司共对外投资了28家企业，参与招投标项目71次，财产线索方面有商标信息7条，专利信息404条，此外企业还拥有行政许可104个。

本文源自：金融界

作者：情报员