金融界2025年7月7日消息，国家知识产权局信息显示，源纳微光学科技（苏州）有限公司申请一项名为“双远心投影光刻镜头”的专利，公开号CN120255127A，申请日期为2025年02月。

专利摘要显示，本发明涉及一种双远心投影光刻镜头，用于紫外窄波段，包括从物方至像方依次设置的前透镜组、光阑和后透镜组，所述前透镜组包括从物方至像方依次设置的四个透镜，所述后透镜组包括从物方至像方依次设置的五个透镜，本发明的双远心投影光刻镜头能够在370nm~380nm或400nm~410nm两个紫外窄波段范围内，保证镜头的全波段高透过率和双远心特征，达到投影光刻镜头的高分辨率、高功率、小型化和优良的温漂性能，可以实现2μm线宽的油墨的曝光解析。并且，本发明的投影光刻镜头的公差分配更加合理，加工装配难度大大降低，量产难度也大大降低，从而提高镜头的生产效率。

天眼查资料显示，源纳微光学科技（苏州）有限公司，成立于2021年，位于苏州市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本1000万人民币。通过天眼查大数据分析，源纳微光学科技（苏州）有限公司参与招投标项目4次，专利信息18条，此外企业还拥有行政许可3个。

本文源自：金融界

作者：情报员