金融界2025年7月8日消息，国家知识产权局信息显示，上海积塔半导体有限公司申请一项名为“掩模版曝光参数校正方法及系统”的专利，公开号CN120276219A，申请日期为2025年05月。

专利摘要显示，本发明提供掩模版曝光参数校正方法及系统，方法包括：根据当前曝光参数控制光刻机执行曝光，生成对应多个重复曝光单元的多个重复曝光图案；测量多个重复曝光图案中相邻曝光图案之间边缘结构的间距；根据测量的间距与理论间距之间的偏差调整光刻机的曝光参数，并将调整后的曝光参数作为新的当前曝光参数，返回基于当前曝光参数，使用光刻机对待测样品进行曝光，形成多个重复曝光图案，直至测量的间距与理论间距之间的偏差满足设定条件。最终校正得到的曝光参数可以减小相邻重复曝光图案之间边缘结构的间距偏差，改善图案位置的准确性，减少后续工艺中的缺陷，提高产品良率。

天眼查资料显示，上海积塔半导体有限公司，成立于2017年，位于上海市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本1690740.3918万人民币。通过天眼查大数据分析，上海积塔半导体有限公司参与招投标项目1837次，财产线索方面有商标信息9条，专利信息1175条，此外企业还拥有行政许可192个。

本文源自：金融界

作者：情报员