金融界2025年7月9日消息，国家知识产权局信息显示，杭州高谱成像技术有限公司申请一项名为“一种基于线扫描高光谱相机的膜厚测量方法及系统”的专利，公开号CN120274652A，申请日期为2025年06月。

专利摘要显示，本发明公开了一种基于线扫描高光谱相机的膜厚测量方法及系统，涉及高光谱成像技术领域，方法包括：获取反射或透射光谱图像和暗噪声图像，进行去噪处理；使用高光谱相机及积分球，对反射或透射光谱图像进行辐射校正；根据无薄膜时的透射光谱或标准镜面反射光谱，获取薄膜反射率或透射率光谱；根据反射率或透射率曲线，确定全域干涉周期的数量，使用快速傅立叶变换方法或光谱拟合方法计算获得膜厚。通过高光谱相机获取具备空间与光谱信息的图像数据，通过快速傅立叶变换与光谱拟合相结合的算法，实现全域成像和动态扫描下的高精度膜厚测量，同时采用暗噪声校正与积分球辐射校正，确保入射光与样品反射或透射光的定量准确性，大幅提高检测效率。

天眼查资料显示，杭州高谱成像技术有限公司，成立于2019年，位于杭州市，是一家以从事研究和试验发展为主的企业。企业注册资本500万人民币。通过天眼查大数据分析，杭州高谱成像技术有限公司共对外投资了3家企业，参与招投标项目29次，财产线索方面有商标信息17条，专利信息20条，此外企业还拥有行政许可5个。

本文源自：金融界

作者：情报员