金融界2025年7月12日消息，国家知识产权局信息显示，拓荆创益（沈阳）半导体设备有限公司申请一项名为“一种紫外固化光源、设备及固化方法”的专利，公开号CN120300024A，申请日期为2025年04月。

专利摘要显示，本发明提供了一种紫外固化光源，紫外固化设备、方法及存储介质。所述紫外固化光源包括：第一光源，位于紫外固化设备的工艺腔之上，用于经由所述工艺腔上方的石英光学窗，向所述工艺腔内提供紫外固化工艺所需的第一紫外光线；第二光源，位于所述石英光学窗的一侧，用于在进行所述紫外固化工艺之前或之后，向所述石英光学窗的另一侧输出标准光强的第二紫外光线；UV探头，位于所述石英光学窗的所述另一侧，用于探测透过所述石英光学窗的第二紫外光线的实测光强；以及控制器，被配置为：根据所述实测光强与所述标准光强的比值，计算所述石英光学窗的透射率；以及根据所述透射率，确定所述第一光源进行下一次紫外固化工艺的运行功率。

天眼查资料显示，拓荆创益（沈阳）半导体设备有限公司，成立于2023年，位于沈阳市，是一家以从事研究和试验发展为主的企业。企业注册资本50000万人民币。通过天眼查大数据分析，拓荆创益（沈阳）半导体设备有限公司参与招投标项目12次，财产线索方面有商标信息1条，专利信息329条，此外企业还拥有行政许可10个。

本文源自：金融界

作者：情报员