金融界2025年8月4日消息，国家知识产权局信息显示，上海新微技术研发中心有限公司申请一项名为“一种用于干膜微结构的显影方法及制备方法”的专利，公开号CN120406059A，申请日期为2025年05月。

专利摘要显示，本发明公开了一种用于干膜微结构的显影方法及制备方法，涉及半导体集成电路制造技术领域。干膜微结构包括至少两层干膜层，每层干膜层形成有沿其厚度方向贯穿的通道，相邻两层干膜层中的通道连通，各个干膜层中的通道孔径设置成由下至上依次减小且相邻两个通道孔径比值为0.5‑0.8中任一值，显影方法包括：将干膜微结构放置于显影液中进行超声处理；对显影后的干膜微结构进行清洗处理；其中，超声处理的超声时间为10min‑60min中任一值，超声温度为23℃‑40℃中任一值，超声功率为40W‑1500W中任一值。

天眼查资料显示，上海新微技术研发中心有限公司，成立于2013年，位于上海市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本144416万人民币。通过天眼查大数据分析，上海新微技术研发中心有限公司共对外投资了21家企业，参与招投标项目478次，财产线索方面有商标信息52条，专利信息709条，此外企业还拥有行政许可44个。

本文源自：金融界

作者：情报员