干膜光刻胶是一种用于微电子制造和印刷电路板（PCB）生产的光刻材料，主要由光敏树脂、光引发剂和溶剂组成。

它在紫外光照射下发生化学反应，形成图案化的保护层，用于后续的蚀刻或电镀工艺。
干膜光刻胶具有操作简便、分辨率高、稳定性好等特点，广泛应用于半导体、显示器和PCB行业。

核心组成材料：
‌聚酯薄膜（PET膜）‌：作为载体，用于支撑感光层并保证膜厚均匀性。 ‌
‌感光层‌：主要由光刻胶（如感光树脂、丙烯酸酯单体等）组成，通过紫外曝光发生交联反应，形成不可溶结构。 ‌
‌聚乙烯膜（PE膜）‌：保护感光层并防止机械损伤，同时隔绝氧气。 ‌

其他关键成分：
‌光引发剂‌：在紫外光照射下启动化学反应。 ‌
‌溶剂‌：辅助涂覆过程，最终挥发。 ‌
该材料以薄膜形式存在，通过热压覆膜工艺贴合基板，经曝光、显影后实现电路图形转移。 ‌
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