来源：问董秘

投资者提问：

公司在半导体痕量元素检测领域突破了哪些关键技术？目前在第三代半导体（如碳化硅）客户中的市占率如何？未来三年在该领域的营收目标是否明确？

董秘回答(聚光科技SZ300203)：

感谢您对公司的关注，公司去年新推出的EXPEC 7350 三重四极杆电感耦合等离子体质谱仪（ICP-MS/MS）采用全新的先进工艺设计和突破性的技术，可应用于高纯试剂，高纯金属，Si、CaAs晶片的超痕量杂质，光刻胶和清洗剂等高基体不稳定样品分析，分析能力成功突破了传统ICP-MS无法克服的干扰问题，助力分析工作者进入到许多更具有挑战性的“卡脖子”领域。ICP-MS/M已成功构建覆盖高纯湿化学品、光刻胶、硅烷、晶圆体/表金属残留以及高纯石英材料等关键材料的痕量杂质分析检测整体解决方案体系，目前该技术平台已在半导体产业链上游实现应用。谢谢！

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