11月14日，深圳清溢光电股份有限公司（以下简称“清溢光电）平板显示及半导体用掩膜版生产基地投产仪式在佛山市南海区丹灶镇举行。两大生产基地正式投产，标志着清溢光电在高精度掩膜版领域的科创布局实现关键突破。

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“这两个项目的投产，是清溢光电的里程碑，更是我们与佛山南海共谋发展的新起点。”清溢光电总经理姜巍表示。

作为国内掩膜版领域的领军企业，清溢光电此次投产的两大基地，总投资35亿元，以全链条技术自主与细分领域突破，展现出强劲的科创竞争力。

其中，高精度平板显示掩膜版基地总投资20亿元，分三期建设，主要生产8.6代及以下高精度FPD掩膜版，产品覆盖a-Si（非晶硅）、LTPS（低温多晶硅）、AMOLED（柔性有机发光显示）等平板显示领域，尤其针对AMOLED用高精度掩膜版需求，可填补国内空白，实现高端掩膜版国产化替代。

高端半导体掩膜版基地总投资15亿元，专注180nm-28nm制程半导体掩膜版生产，有望打破境外领先厂商的垄断格局，助力解决我国半导体产业链“卡脖子”问题。今年11月，清溢光电佛山高端半导体掩膜版生产基地引入佛山第一台电子束光刻机，电子束光刻机是制造尖端半导体掩膜版的“王牌”设备，它的入驻正式开启了佛山高端半导体用掩膜版的制造历史。

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