国家知识产权局信息显示,湖南泰坦未来科技有限公司取得一项名为“一种多孔分隔板及碳化硅晶体生长装置”的专利,授权公告号CN 223592882 U,申请日期为2024年10月。专利摘要显示,本实用新型属于碳化硅晶体生长技术领域,尤其是一种多孔分隔板及碳化硅晶体生长装置,针对在PVT生长SiC单晶的高温环境中,在2200-2400度超高温、腐蚀性的Si气氛下,生成的SiC单晶内部碳包裹缺陷数量较多,并且碳材料会因为被Si腐蚀而产生破坏,导致失效的问题,现提出如下方案,包括主板体,所述主板体上开设有通孔,所述主板体外设置有碳化物涂层,本申请中多孔分隔板外形简单,生产技术简单,生产成本低,方便制作涂层,延长多孔碳材料的使用寿命,并且碳化硅晶体生长装置能够保持生长过程中气流速率的均匀性,减少产品中形成的缺陷,减少碳颗粒杂质上升量,提高晶体质量。
天眼查资料显示,湖南泰坦未来科技有限公司,成立于2021年,位于长沙市,是一家以从事研究和试验发展为主的企业。企业注册资本4600万人民币。通过天眼查大数据分析,湖南泰坦未来科技有限公司参与招投标项目5次,专利信息21条,此外企业还拥有行政许可4个。
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本文源自:市场资讯
作者:情报员
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