国家知识产权局信息显示，皮考逊公司申请一项名为“用于批处理的薄膜沉积装置”的专利，公开号CN121039318A，申请日期为2024年6月。专利摘要显示，一种衬底处理装置（100），包括：反应室（120），被配置为容纳一批衬底（130），该一批衬底以衬底表面面向彼此而布置，从而形成衬底堆叠；以及流体分配器（600），用于建立到反应室（120）的流体流，其中流体分配器（600）被配置为在衬底堆叠的高度方向上扩散流体流，以便使得在反应室内形成的层状流能够传播穿过所述反应室和衬底堆叠的长度。

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作者：情报员