国家知识产权局信息显示,LG伊诺特有限公司申请一项名为“用于预测透镜缺陷的方法和电子设备”的专利,公开号CN121079965A,申请日期为2024年4月。专利摘要显示,本发明的实施例公开了一种用于预测透镜缺陷的方法,该方法包括以下步骤:通过应用某些透镜缺陷来生成作为离焦数据的数据集;基于数据集执行机器学习;以及当输入测试离焦数据时输出透镜缺陷结果。
声明:市场有风险,投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成,仅供参考,不构成个人投资建议。
本文源自:市场资讯
作者:情报员
国家知识产权局信息显示,LG伊诺特有限公司申请一项名为“用于预测透镜缺陷的方法和电子设备”的专利,公开号CN121079965A,申请日期为2024年4月。专利摘要显示,本发明的实施例公开了一种用于预测透镜缺陷的方法,该方法包括以下步骤:通过应用某些透镜缺陷来生成作为离焦数据的数据集;基于数据集执行机器学习;以及当输入测试离焦数据时输出透镜缺陷结果。
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