国家知识产权局信息显示，上海盛剑半导体科技有限公司取得一项名为“一种腔体组件及真空泵”的专利，授权公告号CN223634905U，申请日期为2024年12月。

专利摘要显示，本实用新型提供了一种腔体组件及真空泵，涉及半导体设备技术领域。腔体组件包括多级腔体。多级腔体相连并形成用于容纳转子的腔室，相邻腔体之间形成有环绕腔室的第一隔离通道和用于将第一隔离通道隔断开的隔离部，相邻腔体还设有与第一隔离通道连通的进气通道和出气通道，出气通道和进气通道分别设在隔离部的两侧，进气通道向第一隔离通道通入隔离气体，以使隔离气体从隔离部的一侧沿第一隔离通道流经至隔离部的另一侧，并从出气通道排出，因此能够有效防止腔室内的工艺气体进入腔体之间的间隙并腐蚀密封件，确保了真空泵的气密性，也保障了真空泵的生产效率以及使用成本。

天眼查资料显示，上海盛剑半导体科技有限公司，成立于2021年，位于上海市，是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本11750万人民币。通过天眼查大数据分析，上海盛剑半导体科技有限公司参与招投标项目6次，专利信息117条，此外企业还拥有行政许可34个。

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作者：情报员