国家知识产权局信息显示,全磊光电股份有限公司申请一项名为“一种单横模深脊波导CW-DFB激光器及其制备方法”的专利,公开号CN121097501A,申请日期为2025年9月。
专利摘要显示,本申请涉及光通信用半导体激光器技术领域,尤其涉及一种单横模深脊波导CW‑DFB激光器及其制备方法,方法包括设计主波导与无源波导,通过耦合共振原理将主脊的高阶模耦合到边脊,边脊不进行电流注入,最终消除主脊的高阶横模;在宽脊波导增大输出功率的基础上,刻蚀掉主脊与边脊之间的量子阱区,同时为保证高阶横模能够耦合到边脊,填充相对于原先量子阱折射率更低的Fe‑InP,提高主脊的横向光学限制因子,保证光束质量的同时降低阈值电流;位于主脊与边脊之间的Fe‑InP填充材料有相对原来的量子阱更高的热导率,能够进一步提高器件的散热能力,增大高温饱和电流,减小信号失真,满足长距离通信对波长稳定性的严苛要求。
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本文源自:市场资讯
作者:情报员
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