国家知识产权局信息显示,ASM IP私人控股有限公司申请一项名为“在衬底上形成结构的方法和填充凹陷特征的相关方法”的专利,公开号CN121191978A,申请日期为2025年6月。

专利摘要显示,公开了使用金属顺序渗透合成过程填充衬底上的凹陷特征的方法。所公开的方法包括在凹陷特征内形成有机层并将金属物质引入有机层中以允许形成金属晶种层。随后可由金属晶种层形成主体金属层以填充凹陷特征。

声明:市场有风险,投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成,仅供参考,不构成个人投资建议。

本文源自:市场资讯

作者:情报员