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案例：化合物半导体厂特殊气体处理项目
项目背景
该工厂专注于GaAs、GaN等化合物半导体生产，工艺中使用大量Ⅲ-Ⅴ族元素气体，废气具有剧毒、易燃易爆特性，处理难度大，安全要求极高。
废气成分及来源
主要废气包括：
MOCVD工序
：三甲基镓(TMGa)、三甲基铝(TMAl)、砷烷(AsH3)等
离子注入
：磷烷(PH3)、硼烷(B2H6)
外延生长
：硅烷(SiH4)、二氯硅烷(SiH2Cl2)
辅助工序
废气特点是浓度低但毒性大，部分气体自燃或遇水爆炸，总风量约30,000m³/h。
处理工艺流程
针对特殊气体的危险性，采用了"多级安全处理"工艺路线：
专用收集系统
全不锈钢双壁管道，间隙抽负压设计
管道全程伴热(80-100℃)防冷凝
每个支管设置火焰阻断器
预处理单元
高温燃烧器(1000℃)处理高浓度废气
稀释系统对易燃气体进行氮气稀释
紧急排放火炬系统
湿式处理系统
多级串联洗涤塔(酸洗+碱洗+氧化)
专用洗涤液配方针对不同气体
采用钛材等高耐腐蚀材料
干式处理系统
专用催化剂床层分解残留气体
活性炭吸附作为最后保障
高效HEPA过滤器
安全控制系统
多气体检测报警系统(AsH3、PH3等)
自动氮气purge系统
多重安全联锁(温度、压力、浓度)
最终效果
系统通过严格验收：
AsH3、PH3等剧毒气体去除率>99.9%
无一次安全事故发生
排放浓度仅为标准限值的1/
系统可用率>99.5%
洗涤液循环利用率达90%
年处理危险气体约5吨
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