国家知识产权局信息显示，上海华力集成电路制造有限公司申请一项名为“动态光刻对准补偿方法、光罩及光刻系统”的专利，公开号CN121209220A，申请日期为2025年11月。

专利摘要显示，本发明涉及一种动态光刻对准补偿方法、光罩及光刻系统，方法包括：提供不同几何特征的测试光罩以及对应的GDS文件，并从所述GDS文件提取对应测试光罩上曝光区域的几何与布局特征；利用所述测试光罩进行曝光，获取对应的对准误差数据；测量曝光后各测试光罩不同区域的温度分布数据；基于所述几何与布局特征、所述对准误差数据及所述温度分布数据，构建并训练得到标识优化模型；针对目标产品光罩，输入其曝光区域的几何与布局特征至所述标识优化模型，生成基准标识的布局参数并反馈至光罩生产系统。本发明能够根据实际曝光区域的特征几何与布局特征，动态调整基准标识布局，有效实现曝光补偿，改善对准误差。

天眼查资料显示，上海华力集成电路制造有限公司，成立于2016年，位于上海市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本2960000万人民币。通过天眼查大数据分析，上海华力集成电路制造有限公司参与招投标项目2092次，专利信息2644条，此外企业还拥有行政许可397个。

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作者：情报员