国家知识产权局信息显示，ASML荷兰有限公司申请一项名为“用于训练预测模型以生成掩模图案的二维元件表示的方法和系统”的专利，公开号CN121219638A，申请日期为2024年5月。

专利摘要显示，本文描述了用于预测掩模图案的二维元件表示的方法和系统。向预测模型提供与目标图案相对应的输入掩模图案。所述预测模型生成与所述输入掩模图案相对应的输出掩模图案的二维元件表示。所述二维元件表示包括表示所述输出掩模图案的掩模特征的多个二维元件，并且每个二维元件限定一围封区域。基于所述二维元件表示来确定所述输出掩模图案的掩模特征轮廓。

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作者：情报员