国家知识产权局信息显示，三星显示有限公司申请一项名为“沉积掩模”的专利，公开号CN121228169A，申请日期为2025年6月。

专利摘要显示，公开了一种沉积掩模。所述沉积掩模包括：掩模框架，具有限定在掩模框架中的单元开口；以及膜，设置在掩模框架上。膜包括设置在单元开口上的单元区，多个像素开口被限定在单元区中以连接到单元开口，并且掩模框架与膜之间的界面残余应力在约‑30MPa至约30MPa的范围内。

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作者：情报员