国家知识产权局信息显示，武汉华工正源光子技术有限公司申请一项名为“一种阻隔材料的有效防护时长测试方法及其应用”的专利，公开号CN121231276A，申请日期为2025年9月。

专利摘要显示，本发明属于光模块制造技术领域，具体提供了一种阻隔材料的有效防护时长测试方法，包括以下步骤：S1、将阻隔材料制成容器，向容器中灌满溶质，密封容器；S2、称量容器初始质量，将容器置于设定温度下进行环境老化实验；S3、记录不同时间下容器质量，计算对应挥发质量；S4、根据挥发质量和容器表面积，得到单位面积挥发质量随时间的变化关系；S5、根据预设的容器失效浓度和容器表面积，计算单位面积失效挥发质量；S6、根据单位面积挥发质量随时间的变化关系及单位面积失效挥发质量，得到阻隔材料的有效防护时长。该方法可以精准捕捉溶质的微量渗透，避免溶质大量挥发导致的危害，节约溶质用量。省略开模步骤，降低验证成本。

天眼查资料显示，武汉华工正源光子技术有限公司，成立于2002年，位于武汉市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本100000万人民币。通过天眼查大数据分析，武汉华工正源光子技术有限公司共对外投资了3家企业，参与招投标项目254次，专利信息408条，此外企业还拥有行政许可113个。

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作者：情报员