国家知识产权局信息显示，唐纳森公司申请一项名为“过滤介质的原子层沉积”的专利，公开号CN121240913A，申请日期为2024年3月。

专利摘要显示，本发明提供了含有经涂布多孔基材的制品及其制造和使用方法。所述制品可以是过滤器介质。所述制品包括具有非反应性基础聚合物的多孔基材；置于基础聚合物的至少一部分上的反应性聚合物，所述反应性聚合物的表面能高于非反应性基础聚合物的表面能；和，置于反应性聚合物的至少一部分上的包括金属的化合物。可以使用气相沉积将化合物置于反应性聚合物上。

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作者：情报员