国家知识产权局信息显示，国际商业机器公司申请一项名为“具有底部电介质隔离和完全自对准直接背面接触的晶体管”的专利，公开号CN121241680A，申请日期为2024年6月。

专利摘要显示，一种微电子器件，包括纳米片晶体管，该纳米片晶体管包括第一源极/漏极（170）以及第二源极/漏极（172），连接到第一源极/漏极的正面接触（182）以及连接到第二源极/漏极的背面接触（210）。多个隔离层位于纳米片晶体管之下，以及第二源极/漏极延伸穿过多个隔离层以与背面接触连接。

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作者：情报员