国家知识产权局信息显示，苏州工业园区纳米产业技术研究院有限公司申请一项名为“一种深孔金结构的刻蚀残留处理方法”的专利，公开号CN121228241A，申请日期为2024年6月。

专利摘要显示，本发明提供一种深孔金结构的刻蚀残留处理方法，涉及金属刻蚀技术领域。深孔金结构为金晶圆内经刻蚀产生的小尺寸高深宽比的深孔结构，包括如下步骤：将金晶圆浸泡在刻蚀液中，并持续浸泡第一预设时间；将经刻蚀液浸泡后的金晶圆浸泡在浸润液中，并持续浸泡第二预设时间，并重复上述步骤至少两次；利用去离子水清洗金晶圆；其中，浸润液包括异丙醇溶液。本发明通过依次将金晶圆浸泡在刻蚀液和浸润液中，并将金晶圆多次重复浸泡在刻蚀液和浸润液中，以使刻蚀液对深孔金结构进行完全蚀刻，并利用浸润液增加刻蚀液的浸润性，使得刻蚀液能够浸润至深孔结构中，从而实现深孔刻蚀无残留。

天眼查资料显示，苏州工业园区纳米产业技术研究院有限公司，成立于2011年，位于苏州市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本48800万人民币。通过天眼查大数据分析，苏州工业园区纳米产业技术研究院有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目504次，财产线索方面有商标信息5条，专利信息99条，此外企业还拥有行政许可8个。

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作者：情报员