国家知识产权局信息显示,合肥埃科光电科技股份有限公司申请一项名为“一种光谱推测方法、色差评价方法、系统及介质”的专利,公开号CN121230877A,申请日期为2025年9月。
专利摘要显示,本发明提出一种光谱推测方法、色差评价方法、系统及介质。本申请通过光谱传感器对待测物参考点的一次单点光谱测量,结合成像模组获取的RGB原始图像数据,构建待测物的能量域光谱模型;根据参考点的光谱辐亮度曲线、任一待测点的RGB响应值、成像模组的QE响应曲线,构建目标函数;以最小化目标函数,优化能量域光谱模型,实现实时推算待测物中待测点的光谱辐亮度曲线。本申请基于光谱推测方法,以参考点、待测点的光谱辐亮度曲线为基础,进一步计算三刺激值、色度、亮度,以三刺激值和/或色度、亮度,评价待测物的色差。本申请提高了测量效率,还能在高测量精度下,实现对大尺寸待测物整体的色彩表现的评估,为大尺寸待测物的色彩校正提供技术支持。
天眼查资料显示,合肥埃科光电科技股份有限公司,成立于2011年,位于合肥市,是一家以从事研究和试验发展为主的企业。企业注册资本6800万人民币。通过天眼查大数据分析,合肥埃科光电科技股份有限公司共对外投资了1家企业,参与招投标项目25次,财产线索方面有商标信息16条,专利信息377条,此外企业还拥有行政许可14个。
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本文源自:市场资讯
作者:情报员
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