美卓申请熔炉设备专利,实现熔炉反应塔端壁紧凑布局
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国家知识产权局信息显示,美卓金属有限公司申请一项名为“熔炉设备”的专利,公开号CN121241155A,申请日期为2023年4月。
专利摘要显示,本发明涉及一种熔炉设备,其包括第一熔炉(15a)和第二熔炉(15b),其中第一熔炉和第二熔炉(15a、15b)包括反应塔端和上升塔端,反应塔端包括反应塔端壁(16a、16b),上升塔端包括上升塔端壁(21a、21b),其中第一熔炉(15a)的反应塔端壁(16a)位于距第二熔炉(15b)的反应塔端壁(16b)的距离(X)处,并且其中距离(X)小于20m。
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本文源自:市场资讯
作者:情报员
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