国家知识产权局信息显示,安徽禾臣新材料有限公司申请一项名为“基于聚氨酯材料高性能CMP抛光垫及其制备方法”的专利,公开号CN121245680A,申请日期为2025年11月。

专利摘要显示,本发明涉及CMP抛光技术领域,公开了基于聚氨酯材料高性能CMP抛光垫及其制备方法,该抛光垫采用包括基底垫层、弹性缓冲垫层和聚氨酯抛光面层的多层复合结构,其中抛光面层顶部设有内凹槽及精磨头,精磨头间形成引流槽,并在边沿设置积液槽,积液槽侧壁开设的倒置V形引导孔延伸至内凹槽底部,积液槽底板则设有滤孔及覆盖的滤布;通过多层复合结构提供了弹性缓冲和压力均匀性,精磨头阵列确保了稳定的抛光接触,而引导孔与积液槽构成的导流系统则有效解决了传统敞口隔槽因离心力导致抛光液飞溅的问题,既提升了抛光过程的稳定性与均匀性,又减少了工作台面污染和清洁维护频率。

天眼查资料显示,安徽禾臣新材料有限公司,成立于2016年,位于马鞍山市,是一家以从事化学原料和化学制品制造业为主的企业。企业注册资本5649.69万人民币。通过天眼查大数据分析,安徽禾臣新材料有限公司共对外投资了2家企业,参与招投标项目14次,财产线索方面有商标信息9条,专利信息214条,此外企业还拥有行政许可10个。

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本文源自:市场资讯

作者:情报员