国家知识产权局信息显示，圆益IPS股份有限公司申请一项名为“基板处理装置”的专利，公开号CN121285653A，申请日期为2024年8月。

专利摘要显示，本发明的一方面的基板处理装置包括：工艺腔室，内部形成反应空间；腔室盖，覆盖所述工艺腔室上部；基板支撑部，设置在所述工艺腔室内，以支撑至少一个基板；等离子体源组件，结合到所述腔室盖且形成具有第一半径的第一环形通道的第一等离子体源、形成具有第二半径的第二环形通道的第二等离子体源、设置在所述第一等离子体源及所述第二等离子体源与所述腔室盖之间的绝缘部件；气体喷射部，形成将由所述等离子体源组件活化的工艺气体喷射到所述基板支撑部上的气体喷射板；及控制部，用于控制等离子体电源部及调节工艺气体的供给量的流量调节器的操作。

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作者：情报员