国家知识产权局信息显示,三星显示有限公司申请一项名为“用于制造掩模的方法和电子装置”的专利,公开号CN121272340A,申请日期为2025年6月。
专利摘要显示,本申请提供了用于制造掩模的方法和电子装置。根据实施例的用于制造掩模的方法包括提供基础层,在基础层上形成具有第一图案的图案层,在图案层上形成保护层,在基础层上形成第二图案,以及去除保护层。保护层包括低k材料。
声明:市场有风险,投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成,仅供参考,不构成个人投资建议。
本文源自:市场资讯
作者:情报员
国家知识产权局信息显示,三星显示有限公司申请一项名为“用于制造掩模的方法和电子装置”的专利,公开号CN121272340A,申请日期为2025年6月。
专利摘要显示,本申请提供了用于制造掩模的方法和电子装置。根据实施例的用于制造掩模的方法包括提供基础层,在基础层上形成具有第一图案的图案层,在图案层上形成保护层,在基础层上形成第二图案,以及去除保护层。保护层包括低k材料。
声明:市场有风险,投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成,仅供参考,不构成个人投资建议。
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