如果你今天打开手机，看到中国芯片产业被“卡脖子”，再回头看看几十年前中国光刻机几乎和世界并肩起跑，可能会有点恍惚：这几十年，我们到底经历了什么？
上世纪八十年代，中国的光刻技术只比美国晚个七年；而现在，荷兰的ASML已经在搞2纳米的极紫外光刻机，我们还在啃28纳米的骨头。
整整20年技术代差，不是别人甩得快，是我们曾经自己主动放慢了脚步。这背后的症结，其实早就写在四个字里：造不如买。
那当年那条“买买买”的路，现在看，真的走得值吗？
起点不低，咱也曾站在世界第一排
1965年，我们就做出了自己的第一台接触式光刻机，跟美国比也就差了四年。到了1985年，中国的分步光刻机样机实现了3微米的精度，追上了美国1978年的水平。
那会儿我们和世界顶尖的差距顶多也就一个奥运周期，绝不是现在这样两代、三代的鸿沟。
那个年代的技术积累靠的是啥？靠的是“自力更生”四个字。中电科45所攻下了分布式投影这块硬骨头，清华大学也啃出了3微米的高精度光刻设备。
全国一盘棋，集中攻关，1977年还专门搞了场全国光刻机技术座谈会，42家单位齐上阵，计划经济的那套“集中力量办大事”在这件事上确实发挥了威力。
当时新华社甚至用了“世界第一方阵”来形容我们的技术水平，并不夸张。因为那时候国内的芯片制造基本靠国产光刻机撑着，进口只是补充，而现在呢？高端设备国产化率还不到5%。
“买买买”成了“断脉刀”
进入八十年代，中国开始大规模对外开放，政策思路也从“自己造”慢慢变成了“买回来用”。“贸工技”成了主旋律，意思是先通过贸易引进技术和设备，再谈自主研发。听起来挺合理，但问题是，这条路上很多人只走前半段，后半段压根就没走。
最典型的就是一批国家重大专项，当年的908工程和909工程，倾向于用外资设备直接搞生产，结果国产设备研发资金一砍再砍。
光刻机领域也没逃过这波寒潮，原本在技术线上拼命爬坡的团队，被迫转行或者解散。像中电科45所的核心团队，后来就迁去了上海，算是光刻机研发的“二次创业”。
与此同时，人才也开始流失，那会儿高校里的微电子专业成了冷门专业，毕业生宁愿去外资企业搬砖，也不愿意在国内研究所里熬项目。
原本起步不晚的国产设备企业，被“买办资本”挤得透不过气。而国外厂商把我们当成“现金奶牛”，该卖的设备卖一半，不该卖的技术一个字都不透露。
根据数据，90年代中国光刻机专利申请量比高峰期暴跌了六成，而ASML却靠着全球供应链整合，一步步做成了垄断巨头。
代差越来越大，“卡脖子”成了常态
到了今天，这些年积累的“技术债”终于集中爆发，上海微电子现在能量产的光刻机，精度是90纳米，28纳米的样机还在路上。
而ASML人家已经能做2纳米的极紫外光刻机了，按照美国高盛的估算，中国和世界顶级光刻技术的差距至少两代，保守都得按20年来算。
为什么追不上？技术封锁是一方面，核心零部件拿不到更是致命。EUV光刻机最关键的几个部件：极紫外光源、高精度反射镜、光学系统都被《瓦森纳协定》挡在门外。
芯片制造环节被掐脖子的后果是成本飞涨，还要看人脸色，中芯国际想做7纳米芯片，但没有EUV设备，只能用多重曝光这种“曲线救国”的方法，结果工艺复杂、良率低、成本高，性价比比不过别人。
现在中国芯片自给率还不到三成，靠外面进口的那部分，动不动就有“断供”风险。这其中最深的教训，还是当初那四个字：造不如买。
自主创新，不是口号，是底气
不管过去的路多绕，现在这笔账必须得算清楚，光刻机的落后不是一朝一夕造成的，是一个国家在发展路线选择上的长期摇摆。
早年那种“造不如买”的心态，的确帮我们省了点时间，省了点钱，但最终却丢了控制权，丢了话语权。
好消息是，现在这场“技术补课”已经开始加速，国家大基金三期已经投了930亿元，重点方向之一就是设备和材料。上海微电子的28纳米光刻机样机预计今年交付，虽然赶不上世界最前沿，但起码已经重新上道。
哈工大在13.5纳米光源上也取得了突破，华为在量子芯片方向的专利布局，或许能在将来实现“换道超车”。
但比技术更重要的是认知上的转变，今天的中国，已经不再幻想靠市场换来核心科技。从“造不如买”走到“买也得造”，这是一次国家层面的价值观逆转。不
仅是光刻机，整个产业链都在朝着自主可控靠近，我们不怕起点低就怕方向错。
有人说，中国如果早二十年坚持下去，今天就不会受这么多气。这话虽然刺耳，但也点中了要害，技术不能靠买来的，产业话语权更不能靠别人恩赐。
早一天明白这个道理，就能少走一些弯路。
回头看中国光刻机的发展史，从“领先七年”到“落后二十年”，每一个数字背后都是一次选择的代价。今天的我们正在为昨天的短视买单，但也在为明天的自立埋下伏笔。
历史不会撒谎，只会在轮回中提醒：该自己干的事，别指望别人会帮你干。走过“造不如买”的弯路，接下来这条“买也得造”的路，才是真正属于中国芯的正道。
参考信息：
中国光刻机，从自强到困顿——2023-07-10 来源：新华社《财经国家周刊》
国产光刻机的突围之路——2022-11-03 来源：央视新闻《面对面》栏目
“两弹一星”精神与当代科技攻关——2021-05-28 来源：《求是》
高端光刻机技术发展与挑战——2020-06-15 来源：《中国科学：技术科学》
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