国家知识产权局信息显示，武汉宇微光学软件有限公司申请一项名为“一种亚分辨率辅助图形三维近场快速建模方法及装置”的专利，公开号CN121280621A，申请日期为2025年9月。

专利摘要显示，本申请属于计算光刻技术领域，具体公开了一种亚分辨率辅助图形三维近场快速建模方法及装置，该方法包括：基于待建模SRAF掩模版图的几何结构，生成参考SRAF掩模；对所述参考SRAF掩模进行物理仿真，构建SRAF图形近场核函数集；提取所述待建模SRAF掩模版图的几何中线，并对所述几何中线进行微分，获得微分片段集合；基于所述微分片段集合生成不同宽度下的SRAF中线图像；在所述SRAF图形近场核函数集中提取所述不同宽度下的SRAF中线图像分别对应的近场核函数；基于所述不同宽度下的SRAF中线图像，以及所述不同宽度下的SRAF中线图像分别对应的近场核函数，构建SRAF近场分布。该方法可以有效提高任意曲线形状的SRAF图形近场建模效率和建模精度。

天眼查资料显示，武汉宇微光学软件有限公司，成立于2020年，位于武汉市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本154.7213万人民币。通过天眼查大数据分析，武汉宇微光学软件有限公司财产线索方面有商标信息20条，专利信息25条，此外企业还拥有行政许可2个。

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作者：情报员