国家知识产权局信息显示，武汉新芯集成电路股份有限公司申请一项名为“化学机械抛光方法及控制装置和控制系统”的专利，公开号CN121290255A，申请日期为2025年11月。

专利摘要显示，本申请涉及一种化学机械抛光方法、化学机械抛光控制装置和化学机械抛光控制系统。该化学机械抛光方法用于研磨抛光半导体晶圆。该方法包括：基于预测模型，获取目标参量，其中，目标参量表征预测的半导体晶圆上的待抛光层的抛光厚度和抛光时长之间的关系；在同一预防性维护周期，响应于当前批次抛光为首批次抛光，基于目标参量和首批次抛光的目标抛光厚度，获取预测首批次抛光时长；以及，基于预测首批次抛光时长，对半导体晶圆中的待抛光层进行化学机械抛光处理。本申请通过构建目标参量，通过预测模型预测目标参量以获取预测首批次抛光时长，可降低甚至摆脱对于试生产的需求，从而降低时间和人工消耗。

天眼查资料显示，武汉新芯集成电路股份有限公司，成立于2006年，位于武汉市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本847900.6412万人民币。通过天眼查大数据分析，武汉新芯集成电路股份有限公司共对外投资了2家企业，参与招投标项目225次，财产线索方面有商标信息67条，专利信息1800条，此外企业还拥有行政许可106个。

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作者：情报员