国家知识产权局信息显示，武汉纳佰新电子有限公司申请一项名为“一种用于卡盘清洁的吸附性薄膜及其制备方法”的专利，公开号CN121288793A，申请日期为2025年10月。

专利摘要显示，本发明公开了一种用于卡盘清洁的吸附性薄膜及其制备方法，属于半导体制造装备维护技术领域，包括粘接层和吸附层；其通过将吸附层设置为微气泡结构，以利用封闭气泡和开口气泡的弹性形变，提高吸附层的延展性；在外加压力作用下，利用吸附层表面开口气泡的形变增加吸附层的表面，填充局部空隙，从而增加吸附层与卡盘的实际接触面积，有利于捕获各类悬浮颗粒，确保薄膜的全覆盖清洁范围；通过在第一聚合物基体内添加甲基MQ硅树脂，提高吸附层的吸附性，利用微气泡结构和甲基MQ硅树脂的协同作用，使吸附层在保持对污染物高效捕获的同时，保持与卡盘良好的剥离性，实现吸附层的选择性吸附功能。

天眼查资料显示，武汉纳佰新电子有限公司，成立于2023年，位于武汉市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本521.38万人民币。通过天眼查大数据分析，武汉纳佰新电子有限公司财产线索方面有商标信息18条，专利信息4条，此外企业还拥有行政许可1个。

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作者：情报员