国家知识产权局信息显示，上海华虹宏力半导体制造有限公司申请一项名为“清洗工艺”的专利，公开号CN121310897A，申请日期为2025年9月。

专利摘要显示，本发明提供了一种清洗工艺，包括：将多个待清洗产品按照杂质的含量从小到大依次分为等级1至等级N；将清洗机台分为多个清洗槽，每个清洗槽容置有用于清洗杂质的酸溶液；将每个清洗槽均分为N个等级，每个清洗槽从等级1的产品开始依次对等级1至等级N的产品进行清洗，每个清洗槽在清洗产品时的等级与此时清洗的产品的等级相同；当清洗时间达到第一设定时间时，依次对所有清洗槽进行换酸处理，每个清洗槽换酸后，清洗机台将换酸信息发送给通讯终端；当通讯终端在第二设定时间内接收到所有清洗槽的换酸信息后，对每个清洗槽进行复位，复位后的每个清洗槽均从等级1的产品开始清洗。

天眼查资料显示，上海华虹宏力半导体制造有限公司，成立于2013年，位于上海市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本2046092.7759万人民币。通过天眼查大数据分析，上海华虹宏力半导体制造有限公司共对外投资了8家企业，参与招投标项目930次，财产线索方面有商标信息39条，专利信息5000条，此外企业还拥有行政许可429个。

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作者：情报员