“就算中国企业现在有充足资金和人力，至少也要5年以上，才能勉强追上ASML的水平。”
这句话，出自荷兰咨询机构 Insinger Gilissen 的高级光刻分析师 Jos Versteeg。乍一听，像是一句冷静、理性的技术判断；细品之下，却带着一种欧洲老牌工业强国特有的笃定感——不是基于数据推演的严谨，而是一种“你追不上，这是常识”的潜台词。
这种语气，我们并不陌生。
在过去几十年里，日本人说过，德国人说过，美国人也说过。他们说中国永远做不出高端机床、永远造不出航空发动机、永远只能做低端代工。
而今天，这种语气，轮到了光刻机。
必须承认一个事实：ASML在高端光刻机领域的领先，是实打实的。
无论是EUV，还是最先进的浸润式DUV，它的核心竞争力并不在于“某一个技术点”，而在于一个几乎无法复制的体系：光源，来自美国Cymer；光学系统，由德国蔡司独家打造；控制软件、运动系统、系统集成，几十年持续迭代；超过数万项专利，形成密不透风的技术护城河。
尤其是蔡司——浸润式DUV和EUV光刻机的整套光学系统，全部由蔡司与ASML联合完成。1500多项光学相关专利，让这套体系几乎不可能被“买来”“抄来”。所以，荷兰分析师说“鸿沟客观存在”，这句话本身，并不完全错误。
真正的问题在于：他们默认这个鸿沟是“不可跨越的”。
一个很有意思、但常被忽略的事实是：在2024年之前，中国大陆长期是ASML全球第一大市场，部分季度营收占比甚至接近50%。日本光刻设备、刻蚀设备企业，对中国市场的依赖程度，同样居高不下。
如果中国“注定追不上”，如果中国“只能永远依赖进口”，那么——他们为什么如此敏感？答案只有一个：他们清楚，一旦中国被迫转向“体系级自研”，事情就不再可控。
ASML前CEO彼得·温宁克已经把话说得非常直白：美国对中国的芯片限制，本质不是事实问题，而是意识形态问题。不是因为中国“已经威胁”，而是因为中国“可能做到”。
中国光刻机发展，确实没有奇迹。但也绝不是外界想象中的原地踏步。国产干式DUV光刻机已经完成工程化应用；核心零部件国产化比例持续提升；光源、运动控制、软件算法、系统集成全面推进；多条技术路线并行，而不是押注单一方案。
最重要的一点是：中国没有试图“复制ASML”，而是在搭建自己的制造体系。这一点，正如中科院多位学者反复强调的：中国真正要突破的，不是一台机器，而是一整套工业协同能力。
荷兰、日本、德国之所以笃定中国追不上，本质原因只有一个：他们把中国当成了“后发模仿者”，而不是“体系重构者”。可现实是中国并不是在原有技术路径上追逐ASML的“影子”，而是在倒逼中，重塑自己的产业协同关系。
一个典型案例，就是光学。2025年，舜宇光学旗下舜宇奥来，与多家国内半导体企业、国资平台启动集成电路设备光学协同计划。这不是为了“对标蔡司”，而是为了构建从光学制造 → 设备集成 → 应用场景的闭环。
这条路，很慢，很难，但一旦跑通，就不再受制于任何一家海外企业。
必须说一句可能不讨喜的话：中国光刻机，短期内确实追不上ASML。但这并不意味着失败。真正决定胜负的，从来不是“谁更像ASML”，而是——谁能构建一个不被别人掐脖子的制造体系。
日本当年败退，不是技术不行，而是产业链主导权被系统性拆解。中国今天的选择，恰恰相反。
荷兰分析师说，中国至少需要5年才能“勉强追上”。也许他是对的。也许他低估了中国。也许，时间会给出第三种答案。但有一点可以确定：历史从不奖励傲慢，只奖励那些在封锁中重构世界的人。光刻机这条路，不会有奇迹，但一定会有结果。
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