中国光刻机起步不算晚，新中国刚成立没几年，就把半导体技术当重点抓。
1956年，国家定下科学规划，强调得尽快搞定半导体，才能支撑国防计算。科研人埋头苦干，同年11月，第一只晶体三极管出来了，这步子跟国外差不多同步。
团队用国产材料反复试，调纯度，确保稳定。接着1958年，锗晶体管也搞定，只比国外晚几年。
这玩意儿用在早期电子设备上，帮了大忙。进入60年代，1962年硅平面晶体管诞生，这就需要光刻工艺了，说明中国那时已摸到门道。
1965年，中科院和上海电子仪器厂联手，推出65型接触式光刻机，让中国在光刻领域站稳了脚跟。
这台机器比美国GCA的首台晚四年，但性能追得上。科研团队借助这台设备积累了小规模芯片生产经验，为后续技术升级埋下伏笔。
70年代初，中国光刻技术已有扎实基础，但国内芯片产业规模有限，技术迭代速度明显放缓。
国外企业此时已推出接近式光刻机，中国仍停留在接触式技术阶段。
1977年5月，42家相关单位的67名从业者齐聚江苏吴县，召开全国光刻机座谈会。
参会者共同敲定攻关计划，明确要加强国际技术情报收集。
座谈会点燃了行业热情，科研团队持续发力，1985年，中电科45所成功研制分布式光刻机。
这款设备的技术指标与美国同类产品持平，仅晚七年问世。彼时阿斯麦刚成立一年，市场份额微乎其微；台积电尚未崭露头角，中国本有机会凭借体制优势实现赶超。
80年代国际形势变化改写了发展轨迹。西方合作大门敞开，以往受限的国外设备开始进入中国市场。
光刻机研制周期长、投入大、风险高，“买现成设备更划算”的想法在行业内蔓延。相关企业纷纷转向进口，认为直接采购能快速满足生产需求，节省研发成本。
这种思潮直接引发连锁反应。大批尖端科研项目下马，半导体领域的光刻机研发资金被大幅削减。
科研团队逐渐解散，核心人才要么转行，要么流向国外企业。技术迭代彻底停滞，多年积累的研发底子慢慢流失。
同一时期，国外企业正加速整合全球产业链。阿斯麦借助国际合作突破技术瓶颈，市场份额快速扩大。
台积电等芯片制造企业的崛起，进一步拉动高端光刻机需求，倒逼设备厂商持续创新。
中国在放弃自主研发的间隙，与国际先进水平的差距不断拉大。
80年代末，国内开始大规模采购国外光刻机。短期内确实解决了部分生产难题，但这种依赖让中国彻底丧失自主研发动力。
研发中断导致技术断层，配套的光刻胶、高精度镜头等零部件研发也同步停滞。
90年代后，差距已扩大到难以追赶的程度。《瓦森纳协定》签署后，西方对中国实施技术封锁，先进设备和技术引进变得异常困难。
中国再想重启自主研发，发现既面临技术断层，又缺乏完整产业链支撑。阿斯麦推出的EUV极紫外光刻机集合全球顶尖技术，中国在相关领域的积累几乎为零。
曾经与国外仅差几年的技术水平，最终演变成20年以上的差距。这一切的根源，正是“造不如买”的短视思维。
核心技术依赖进口永远无法掌握发展主动权，早期科研人员在艰苦条件下打下的基础，本可成为赶超跳板，却因短期利益诱惑被放弃。
当年运10飞机等多个国防科研项目的下马，都有着相似背景。
这些案例反复证明，关键领域的核心技术买不来、讨不来。
进入21世纪，中国重新启动半导体产业自主攻关。
国家出台专项政策，设立产业基金扶持相关企业。上海微电子等企业逐步恢复光刻机研发，从成熟制程入手稳步追赶。
但国际领先企业已牢牢占据高端市场，技术壁垒和专利封锁层层叠加。
追赶之路注定漫长，需要投入数倍于当年的资金和精力。光刻机的发展历程，给所有高科技产业敲响警钟。
只有坚持自主创新，持续投入研发，才能在全球竞争中站稳脚跟。
如今中国半导体产业正在补课，虽然过程艰辛，但这是掌握发展主动权的必由之路。
那些曾经的遗憾和教训，更应成为激励后人坚持自主研发的动力。
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