国家知识产权局信息显示，六安欣奕华半导体材料有限公司申请一项名为“聚对羟基苯乙烯树脂及其制备方法和KrF光刻胶”的专利，公开号CN121293405A，申请日期为2025年12月。

专利摘要显示，本申请提供一种聚对羟基苯乙烯树脂及其制备方法和KrF光刻胶，涉及光刻胶技术领域。本申请提供的聚对羟基苯乙烯树脂在树脂基体中引入特定的酰胺类衍生物，此类树脂与其余添加剂混合，从而形成适用于不同膜厚的具有高分辨率、高灵敏度以及边缘粗糙度小的化学放大型光刻胶组合物。本申请的KrF光刻胶在厚膜光刻胶的应用中可以提供良好的分辨率以及边缘粗糙度，同时可以提高光刻胶灵敏度，增加光刻胶曝光显影后的溶解度，减少缺陷。从而解决了由于厚膜光刻胶的图案形貌差，边缘粗糙度大，分辨率低导致的后续离子注入或刻蚀过程中的图案偏差导致的芯片良率不足的问题。

天眼查资料显示，六安欣奕华半导体材料有限公司，成立于2023年，位于六安市，是一家以从事化学原料和化学制品制造业为主的企业。企业注册资本10000万人民币。通过天眼查大数据分析，六安欣奕华半导体材料有限公司参与招投标项目5次，专利信息1条，此外企业还拥有行政许可6个。

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作者：情报员