国家知识产权局信息显示，罗伯特·博世有限公司申请一项名为“基底附近的用于表面处理的ECR等离子体源”的专利，公开号CN121311960A，申请日期为2024年5月。

专利摘要显示，用于对一个或多个基底（116）进行表面处理的等离子体源（100），其包括：真空腔室（108）；电压源（128）；材料馈入源（130）；具有磁体（112、112a）的磁体布置结构（122a、122b），其中，磁体（112、112a）、优选永磁体（112a）相对于彼此如此定向，使得满足电子回旋共振条件；用于产生和传输电磁波（120）的仪器（126），其中，仪器（126）包括用于产生电磁波（120）的发生器（104）、天线（102）和导体（106）；以及用于保持一个或多个基底（116）的至少一个或多个基底保持设备、例如基底树状结构，其中，借助于电压源（128）能够将能接通和关断的基底偏压施加到一个或多个基底（116）。

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作者：情报员