国家知识产权局信息显示，东方晶源微电子科技（上海）有限公司申请一项名为“一种刻蚀形貌预测方法、设备、介质及计算机程序产品”的专利，公开号CN121325502A，申请日期为2025年9月。

专利摘要显示，本申请公开了一种刻蚀形貌预测方法、设备、介质及计算机程序产品，涉及半导体制造技术领域。该刻蚀形貌预测方法包括：获取掩模版图样本的真实光刻图像样本，根据光刻胶模型，对每个掩模版图样本的真实光刻图像样本在多个光刻工艺窗口下的光刻图形轮廓进行预测，得到每个掩模版图样本在各光刻工艺窗口下的预测光刻图像样本，获取真实刻蚀图像标签，并基于预测光刻图像样本以及真实刻蚀图像标签，训练预设刻蚀形貌模型，得到目标刻蚀形貌模型。通过光刻胶模型和目标刻蚀形貌模型，可基于目标掩模版图在单一光刻工艺窗口下的真实光刻图像，实现不同光刻工艺窗口下真实刻蚀图像的预测，具备泛化能力，且提高了预测准确性。

天眼查资料显示，东方晶源微电子科技（上海）有限公司，成立于2021年，位于上海市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本10000万人民币。通过天眼查大数据分析，东方晶源微电子科技（上海）有限公司共对外投资了1家企业，专利信息44条，此外企业还拥有行政许可1个。

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作者：情报员