国家知识产权局信息显示,ASML荷兰有限公司申请一项名为“光学测量标记”的专利,公开号CN121336153A,申请日期为2024年6月。

专利摘要显示,一种用于成像系统的光学测量标记,包括反射区和被配置为降低由成像系统形成的光学测量标记的图像的强度的亚结构。所述亚结构能够有效地降低在使用该光学测量标记进行测量时可能发生的碳污染速率。

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作者:情报员