景德镇旨印蓝申请原位生成堇青石超平滑低膨胀陶瓷釉制备方法专利,实现釉料的低热膨胀性和平滑特性
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国家知识产权局信息显示,景德镇旨印蓝陶瓷有限公司;景德镇陶瓷大学申请一项名为“一种原位生成堇青石的超平滑低膨胀陶瓷釉的制备方法”的专利,公开号CN121318540A,申请日期为2025年12月。
专利摘要显示,本发明公开了一种原位生成堇青石的超平滑低膨胀陶瓷釉的制备方法,通过在高钾低钠的体系中引入氧化铋、氧化锑形成K-Mg-Sb-Bi的多元低共熔体系,不仅实现了釉料的低热膨胀性和平滑特性,更成功引导了堇青石微晶在釉玻璃相中原位析出,从而获得了综合性能卓越的陶瓷釉面。
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本文源自:市场资讯
作者:情报员
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