国家知识产权局信息显示，三星显示有限公司申请一项名为“沉积掩模及用于制造其的方法和电子装置”的专利，公开号CN121320901A，申请日期为2025年6月。

专利摘要显示，提供了一种沉积掩模及用于制造其的方法和电子装置。沉积掩模包括：掩模基底，包括半导体晶圆；第一涂覆膜，在掩模基底上；以及第二涂覆膜，在第一涂覆膜上，并且包括交替地布置的孔图案和掩模图案，其中，孔图案的上部宽度小于孔图案的下部宽度。

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作者：情报员