恩特格里斯申请铪前体和相关方法专利,前体包含小于1 ppm的特定杂质
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国家知识产权局信息显示,恩特格里斯公司申请一项名为“铪前体和相关方法”的专利,公开号CN121358889A,申请日期为2024年5月。
专利摘要显示,本发明涉及包含卤化铪前体的前体容器。所述卤化铪前体包含小于1 ppm的至少一种杂质。所述至少一种杂质包含以下物质中的至少一种:钛污染物、铬污染物、铝污染物、铁污染物或其任何组合。还提供相关系统和相关方法,包括例如但不限于用于递送蒸气前体的系统、用于纯化前体的方法和类似系统与方法。
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本文源自:市场资讯
作者:情报员
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