国家知识产权局信息显示，上海精测半导体技术有限公司申请一项名为“反射率谱获取方法、终点检测方法及装置、抛光装置”的专利，公开号CN121361030A，申请日期为2024年7月。

专利摘要显示，本发明是关于一种反射率谱获取方法、终点检测方法及装置、抛光装置，其中，反射率谱获取方法包括：获取表征不同光强光源条件下光强测量值波动性的影响因素分布曲线，基于影响因素分布曲线，确定光源因素占主导时对应的临界光强值，对源光束按照预设比例β进行分束，以得到所需的测量光束和参考光束，测量光束入射至样品后形成反射光束。基于参考光强对反射光强进行校准，以生成目标反射光强。基于目标反射光强计算样品的反射率谱。其中，测量光束和参考光束具有相同的光强波动性，进而在基于参考光强对反射光强进行校准时，有效的提高了反射率谱测量的准确性与稳定性。

天眼查资料显示，武汉颐光科技有限公司，成立于2013年，位于武汉市，是一家以从事通用设备制造业为主的企业。企业注册资本1000万人民币。通过天眼查大数据分析，武汉颐光科技有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目87次，财产线索方面有商标信息10条，专利信息86条，此外企业还拥有行政许可4个。

上海精测半导体技术有限公司，成立于2018年，位于上海市，是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本207265.2777万人民币。通过天眼查大数据分析，上海精测半导体技术有限公司共对外投资了4家企业，参与招投标项目218次，财产线索方面有商标信息12条，专利信息220条，此外企业还拥有行政许可71个。

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作者：情报员