国家知识产权局信息显示,四会富仕电子科技股份有限公司;肇庆学院申请一项名为“一种厚铜任意层互连电路板及其制作方法”的专利,公开号CN121397865A,申请日期为2025年10月。
专利摘要显示,本发明公开了一种厚铜任意层互连电路板及其制作方法,所述厚铜任意层互连电路板包括至少四层厚铜层,每一层厚铜层均是由一张芯板上的两面线路铜层组成,且每一张芯板上的两面线路铜层上下重叠并通过导通孔连通,且任意厚铜层之间通过导通孔连通。本发明和方法实现了厚铜和任意层互连的要求,采用一张芯板中上下两层重叠的线路图形实现了厚铜的要求,并采用任意层互连工艺实现了重叠的线路连通和厚铜层之间的连通,尤其适用于线圈的绕线和通孔任意层互连的结构。
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本文源自:市场资讯
作者:情报员
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